沃特世Xevo TQD三重四級桿質(zhì)譜儀高靈敏度

加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率

您不會再受到與基質(zhì)效應(yīng)相關(guān)的復(fù)雜因素和不確定性的干擾。得益于RADAR™，方法開發(fā)成為一種智能化過程，它將定量數(shù)據(jù)與定性數(shù)據(jù)相結(jié)合以直觀顯示完整樣品，從而在樣品制備和色譜方法開發(fā)過程中實現(xiàn)了數(shù)據(jù)導向性決策。

在RADAR模式下，您既可監(jiān)測樣本中的基質(zhì)干擾物、代謝物、雜質(zhì)和降解產(chǎn)物，同時又可準確對目標化合物定量。

確保結(jié)果始終正確

盡可能增加處理量，同時又不會降低數(shù)據(jù)

對UPLC®的典型窄峰（峰寬2 - 3秒）進行準確定量需要較高的采集速度以確保數(shù)據(jù)質(zhì)量。不論您在同一方法中只分析一種化合物，還是分析數(shù)百種化合物，T-Wave碰撞室均可確保UPLC在色譜分析速度和分離度方面的優(yōu)勢得到充分發(fā)揮。

不過時的創(chuàng)新技術(shù)

Xevo系列的通用離子源結(jié)構(gòu)擁有廣泛的電離技術(shù)范圍以及剛剛面世的電離技術(shù)創(chuàng)新成果。您在試驗選項方面將擁有無限選擇。當您需要某些選項而又時間緊迫時，可在離子源之間進行快速轉(zhuǎn)換，幾分鐘即可使用。

精益求精 — 優(yōu)質(zhì)技術(shù)

UniSpray™是您擴展儀器功能所必需的首要關(guān)鍵技術(shù)，與其它單一技術(shù)相比，該技術(shù)能夠電離種類更多的化合物。更豐富的化合物種類覆蓋范圍，加上極易操作的離子源，UniSpray讓您的實驗室無需更換離子源或探頭即可分析比以前種類更多的化合物。這樣就減少了更換儀器部件的時間，讓用戶可以將更多的時間用于獲取分析結(jié)果